فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

 فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word دارای ۸۵ صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

لطفا نگران مطالب داخل فایل نباشید، مطالب داخل صفحات بسیار عالی و قابل درک برای شما می باشد، ما عالی بودن این فایل رو تضمین می کنیم.

فایل ورد فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word  کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه  و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word :

بخشی از فهرست مطالب فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word

فصل اول :معرفی دستگاه پلاسمای کانونی    
پلاسما:    
پینچ (pinch):    
پلاسمای کانونی:    
معرفی عمومی پلاسمای کانونی:    
مشخصات کلی پلاسمای کانونی شده:    
چهار بخش اساسی در دستگاه پلاسمای کانونی    
دستگاه پلاسمای کانونی نوع مدر و فیلیپوف    
برخی کاربردهای دستگاه پلاسمای کانونی    
دینامیک دستگاه پلاسمای کانونی    
عملکرد پلاسمای کانونی    
فاز شکست (Break down phase):    
فاز رانش محوری (Axial rundown phase):    
فاز شعاعی(Radial Phase):    
۱ـ فاز تراکم (The Compression Phase)    
۲ـ فاز ساکن (The Quiescent Phase):    
۳ـ فاز ناپایداری (The unstable phase):    
۴ـ فاز فروپاشی(the decay phase):    
تقارن لایه جریان:    
عوامل مؤثر در کارآیی سیستمهای پلاسمای کانونی:    
پرتوهای ساطع شده از سیستم پلاسمای کانونی:    
پرتو ایکس:    
تولید نوترون:    
تولید یون:    
فصل دوم :برخی روش های لایه نشانی  و دستگاه های آنالیز فیلم های نازک لایه نشانی شده    
۲-۱- برخی روش های لایه نشانی    
۲-۱-۱- کندوپاش (Sputtering)    
۲-۱-۲- کندوپاش به وسیله پلاسما    
۲-۱-۳- کندوپاش پرتو یونی    
۲-۱-۴- روش تبخیر فیزیکی (PVD)     
۲-۱-۵- روش تبخیر شیمیایی (CVD)    
۲-۱-۶- روش تبخیر گرمایی    
۲-۱-۷- لایه نشانی به وسیله پلاسمای کانونی    
۲-۲- برخی دستگاه‌های آنالیز جهت بررسی فیلم‌های نازک لایه‌نشانی‌شده    
۲-۲-۱- میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)    
۲-۲-۲- میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM)    
۲-۲-۳- دستگاه پراش پرتوی ایکس (XRD)    
فصل سوم :برخی تحقیقات انجام شده جهت لایه نشانی توسط دستگاه پلاسمای کانونی    
۳-۱- تشکیل کربیدتیتانیوم (TiC) بر روی زیرلایه تیتانیوم از طریق کاشت یون    
۳-۲- تشکیل کربید سیلیکون بر روی زیرلایه سیلیسیوم از طریق کاشت یون    
۳-۳- تاثیر تابش پالس های یونی پرانرژی بر روی زیرلایه سیلیسیوم    
۳-۴- بهینه سازی دستگاه پلاسمای کانونی به عنوان منبع پرتوی الکترونی برای لایه نشانی فیلم های نازک    
۳-۵- نیتریده سازی به کمک دستگاه پلاسمای کانونی    
۳-۶- لایه نشانی نانولایه ها بوله دستگاه پلاسمای کانونی    
منابع و مراجع    

بخشی از منابع و مراجع فایل ورد کامل تحقیق معرفی دستگاه پلاسمای کانونی و روش های لایه نشانی ۸۵ صفحه در word

[۱] سوالونی، هادی، ۱۳۸۳، «مبانی علم سطح در نانوفناوری»، انتشارات دانشگاه تهران، چاپ اول

[۲] خرازی، یوسف؛ شیخ غفور، امیر، ۱۳۸۰، «ابزار شناسی ساختار مواد»، انتشارات دانشگاه علم و صنعت ایران، چاپ اول

[۳] مصلحی، محمدعلی، ۱۳۸۷، «مطالعه دستگاه پلاسما کانونی با استفاده از سیستم سایه نگاری لیزری»، پایان‌نامه دکتری، دانشکده فیزیک تبریز

[۴] Herold, H., Juzykiewiez, A., Sadowski, M., Schmidt, H., 1989, Nucl. Fusion, 29 (1989) 1255-

[۵] Zhang, T., Lin, J., Patran, A., Wong, D., Hassan, S. M., Mahmood, S., White, T., Tan, T. L., Springham, S. V., Lee, S., Lee, P., Rawat, R. S., 2007, Plasma Sources Sci. Technol 16 (2007) 250-

[۶] Valvoda, V., 1996, Surf. Coat. Technol. 80 (1996) 61-

[۷] Nunomura, S., Koga, K., Shiratani, M., Watanabe, Y., Morisada, Y., Matsuki, N., Ikeda, S., 2005, Japan, J. Appl. Phys. 244 L1(2005) 509-

[۸] Kelly, H., Lepone, A., Marquez, A., 1997, IEEE Trans. Plasma Sci. 25 (1997) 445-

[۹] Savaloni, H., Player, M., 1995, J. Vac, 46 (1995) 167-

[۱۰] Kluth, O., Bernard, A., Wanger, H., 2001, 17th European Phptovoltaic Solarenergy Conference, (2001) Munich, Germany

[۱۱] Gupta, R., Srivastava, M. P., 2004, IOP (2004)

[۱۲] Kitabatake, M., Greene, J. E., 1996, Jpn. J. Appl. Phys. 35(1996) 5261-

[۱۳] Wang, Z. P., Yousefi, H. R., Nishino, Y., Ito, H., Masugata, K., 2008, Physics Letters A, 372 (2008) 7179-

[۱۴] Schmidt, H. 1987, In Proc. 2nd Latin American Workshop on Plasma Phys, and Contr. Thermonucl. Fusion, Medellin, Vol. 12 (1987) p

[۱۵] Dognes, A., Herziger, G., Krompholz, H., Ruhl, F., Schonbach, K., 1980, Phys. Lett. A77 (1980) 246-

[۱۶] Bostick W. H., Grunberger, L, Prior, W., 1969, in Proc. 3th Europ. Conf. on Contr. Fusion and Plasma Phys, Utrecht, 1 (1969)

فصل اول :معرفی دستگاه پلاسمای کانونی

 مقدمه

اگر چه نمی توان منکر استفاده از انرژی های تجدید ناپذیر از قبیل انرژی باد، خورشید و ; شد، اما نمی توان غول صنعت را فقط با انرژی های تجدید ناپذیر سیر کرد. بعلاوه منابع اولیه انرژی های شناخته شده در روی کره زمین فقط برای پانصد سال کفایت خواهد کرد و وسایل زیست محیطی چنان دست و پای بشر را بسته است که متخصصان امر، همین پانصد سال را نیز ناشدنی می پندارند و بنابراین باید در جستجوی منبع انرژی دیگری بود

امروزه پیشرفت روز افزون بشر سبب شده است که نیاز انسان به تأمین انرژی به حدی زیاد شود که سوخت های فسیلی دیگر نتوانند جوابگوی نیازهای صنعتی باشند. از اینرو متخصصان و دانشمندان به فکر استفاده از انرژی های هسته ای افتاده اند. فرایند شکاف هسته ای که هم اینک در راکتورهای تولید انرژی مورد استفاده قرار می گیرد به علت تولی زباله های رادیواکتیو چندان مورد پسند نیستند، در حالیکه فرایند هم جوشی هسته ای بسیار از این جهت مطلوب تر می باشد زیرا که منجر به محصولاتی می شود که مانند زباله های حاصل از شکاف هسته ای خطرناک نمی باشند. از این رو به علت پاک بودن این انرژی توجه زیادی به آن می شود

در راستای انجام تحقیقاتی برای دستیابی به این تکنولوژی دستگاه پلاسمای کانونی ساخته شد. این دستگاه در ابتدا به عنوان منبع تولید نوترون های پر انرژی ساخته شد ولی پس از مدتی به عنوان یک دستگاه کم هزینه و با کاربردهای چندگانه مورد توجه دانشمندان و به خصوص دانشمندان کشورهای در حال توسعه قرار گرفت

دستگاه پلاسمای کانونی در اواخر دهه ۱۹۸۵، اوایل دهه ۱۹۶۰، توسط فیزیکدانان اولی (فیلیپوف) و فیزکدانان آمریکایی (مدر) ساخته شد و به سرعت به عنوان دستگاهی کارا و جالب برای تولید پلاسما و تابش های آن مورد توجه قرار گرفت. پلاسمای کانونی (PF) از هنگام اختراعش در دهه ۱۹۶۰ قویترین چشمه پلاسمایی نوترون به شمار می رفت، تا اینکه با اختراع روش گرمایش توکامک با اشعه خنثی این دستگاه جای پلاسمای کانونی را به عنوان قویترین چشمه پلاسمایی نوترون گرفت. ولی ارزانی و سادگی سیستم پلاسمای کانونی باعث شده که برای استفاده های مختلفی مورد توجه قرار گیرد. حتی آژانس بین المللی انرژی اتمی نوعی از این دستگاه ها را برای جهان سوم طراحی کرد

دستگاه پلاسمای کانونی می تواند به عنوان منبع تولید اشعه ایکس سخت و نرم به کار رود  که به علت پالسی بودن این اشعه می تواند برای عکسبرداری از وسایل سریع مانند موتور هواپیما به کار رود. از دیگر کاربردهای این دستگاه تولید الکترون و یون می باشد که فرآیند تولید آنها در بخش های بعدی توضیح داده می شود

یون های حاصل از این دستگاه می تواند برای کاشت یون استفاده شود. البته مهمترین کاربرد دستگاه پلاسمای کانونی، تحقیقات راجع به همجوشی هسته ای در هسته های سبک از قبیل دوتریم، تریتیم، هلیم و لیتیم است

پلاسما

پلاسما حالت گازی شکل از ماده است که در آن بر اثر دمای زیاد، اتم های ماده یونیزه شده و گازی متشکل از الکترون ها و یون ها، تولید می شود. با تبدیل شدن یک ماده به پلاسما، خواص جدیدی در آن ظاهر می شود. بر خلاف گازهای معمولی ( که اتم خنثی دارند)، پلاسما می تواند هادی جریان الکتریکی باشد، از خود نور گسیل کند، تحت تأثیر امواج الکترومغناطیسی قرار بگیرد و رفتار جمعی از خود نشان دهد که نه تنها به شرایط موضعی بلکه به حالت پلاسما در مناطق دور نیز بستگی دارد

پینچ (pinch)

پینچ پلاسما در حقیقت فشرده شدن پلاسما توسط میدان مغناطیسی ناشی از جریان الکتریکی می باشد. در سیستم های پلاسمای کانونی که در بخش بعد توضیح داده خواهد شد، یک جریان الکتریکی نسبتاً زیاد به هنگام تخلیه الکتریکی در داخل پلاسما ایجاد می شود که در اثر بر هم کنش با میدان مغناطیسی بوجود آمده از میدان الکتریکی فشرده می شود و پلاسمای موجود در سیستم را نیز فشرده می نماید. این پدیده به اثر پینچ در پلاسما معروف است. اثر پینچ اساس محصور سازی مغناطیسی پلاسما در سیستم هایی نظیر پینچ در راستای z ، پینچ در راستای و پلاسمای کانونی می باشد. به این ترتیب می توان گفت که عامل اصلی پینچ پلاسما، بر هم کنش یک جریان الکتریکی قوی با میدان مغناطیسی ناشی از خود آن می باشد

پلاسمای کانونی

دستگاه های پلاسمای کانونی سیستم هایی هستند که با تکنولوژی نسبتاً ساده و ارزان توانایی تولید پلاسمای چگال با طول عمر نسبتاً کم را دارند. محدوده ی مشخصات این نوع پلاسما عبارت است از حجم ۱cm3 چگالی ۱۰۲۵m-3 طول عمر ۱۰۰ns، دما۱KeV. ویژگی این سیستم ها باعث شده تا آنها مورد توجه پژوهشگران گداخت هسته ای و همچنین تولید و کاربرد پرتوهای یونی، الکترونی، نوترون و ایکس قرار گیرند]۲و۱[. سهولت نسبی تولید، ارزانی قیمت، شار زیاد و زمان کم تولید پرتو از سیستم های پلاسمای کانونی، بستر مناسبی را جهت کاربردهای صنعتی و پزشکی فراهم می آورد. زمان کم تولید پرتو( حدود ۱۰۰ns) از یک طرف منجر به کاهش فوق العاده زیاد خطرات بهداشتی و زیست محیطی کاربران شده و از طرف دیگر این امکان را ایجاد می کند که به عنوان مثال وضعیت دقیق و واضح سوژه های متحرک در مقطع خاصی از زمان ثبت شود که این به نوبه خود زمینه ساز بسیاری از کاربردهای پزشکی و صنعتی می باشد