فایل ورد کامل کنترل بازخورد آماری یک فرایند اچ پلاسما


در حال بارگذاری
10 جولای 2025
پاورپوینت
17870
3 بازدید
۷۹,۷۰۰ تومان
خرید

توجه : به همراه فایل word این محصول فایل پاورپوینت (PowerPoint) و اسلاید های آن به صورت هدیه ارائه خواهد شد

این مقاله، ترجمه شده یک مقاله مرجع و معتبر انگلیسی می باشد که به صورت بسیار عالی توسط متخصصین این رشته ترجمه شده است و به صورت فایل ورد (microsoft word) ارائه می گردد

متن داخلی مقاله بسیار عالی، پر محتوا و قابل درک می باشد و شما از استفاده ی آن بسیار لذت خواهید برد. ما عالی بودن این مقاله را تضمین می کنیم

فایل ورد این مقاله بسیار خوب تایپ شده و قابل کپی و ویرایش می باشد و تنظیمات آن نیز به صورت عالی انجام شده است؛ به همراه فایل ورد این مقاله یک فایل پاور پوینت نیز به شما ارئه خواهد شد که دارای یک قالب بسیار زیبا و تنظیمات نمایشی متعدد می باشد

توجه : در صورت مشاهده بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل می باشد و در فایل اصلی فایل ورد کامل کنترل بازخورد آماری یک فرایند اچ پلاسما،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

تعداد صفحات این فایل: ۳۲ صفحه


بخشی از ترجمه :

۵.نتیجه‌گیری
در این مقاله، مفاهیم کلی و جرئیات خاص عملیات یک فرایند اچ پلاسما (یا خون) تحت نحوه‌ی عمل کنترل فرایند نشان داده شده است. این حالت (یا نحوه) به اپراتور امکان تعریف فرایند را نه تنها از نظر تنظیمات کنترل بلکه از نظر الزامات همه‌ی مشاهده‌پذیر‌های اندازه‌گیری شده می‌دهد. با حسگرهای موجود برای اندازه‌گیری وضعیتی این مشاهده‌پذیرها، یک روند SQC برای نظارت مقادیر (واقعی پیش‌بینی شده‌ی) این مشاهده پذیرها توسعه یافته است. هنگامی که از روش‌های SQC مشخص می‌شود که انحراف از نتیجه‌ی پیش‌بینی شده از نظر آماری قابل توجه است، مقدار جمله‌ی ثابت مدل فرایند/تجهیزات، در مدل فرایند چندجمله‌ای اصلی برروزرسانی می‌شود. یک بهینه‌ساز سپس به طور خودکار، فرایند را مجددا تنظیم می‌کند، و دستورالعمل جدید را فراهم می‌کند که آخرین حالت تجهیزات را فرا می‌گیرد و همه‌ی مشاهده‌پذیرها را در نظر می‌گیرد، به طوری‌که همه‌ی آن‌ها را با هدف در مقادیر هدف مربوطه‌شان حفظ می‌کند.

عنوان انگلیسی:Statistical Feedback Control of a Plasma Etch Process~~en~~

V. CONCLUSION

This paper has demonstrated the general concepts, and the specific details, of operating a plasma etch process under the process control mode of operation. This mode allows the Operator to define the process not in terms of the control settings, but in terms of the requirements of all the measured observables. With sensors available for the insitu measurement of these observables, an SQC procedure has been developed to monitor the (actual-predicted) values of these observables. When it is determined from SQC methods that the deviation from the anticipated result is statistically significant, the value of the constant term of the process/equipment model is updated in the original polynomial process model. An optimizer then automatically re-tunes the process, and provides a new recipe that comprehends the latest equipment state and considers all the observables, so as to keep all of them aimed at their respective target values.

$$en!!

  راهنمای خرید:
  • همچنین لینک دانلود به ایمیل شما ارسال خواهد شد به همین دلیل ایمیل خود را به دقت وارد نمایید.
  • ممکن است ایمیل ارسالی به پوشه اسپم یا Bulk ایمیل شما ارسال شده باشد.
  • در صورتی که به هر دلیلی موفق به دانلود فایل مورد نظر نشدید با ما تماس بگیرید.